·开启式纳米线生长CVD炉--OTF-1200X-4-NW

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         仪表操作视频

OTF-1200X-100单区管式炉：

·采用ABB电器元件

·右侧可滑动支架的法兰，方便操作

·采用双层壳体结构并带有风冷系统

·右侧水冷法兰可滑动，便于样品装载

·加热器与炉子之间的左侧水冷法兰能够更好的密封

·炉膛材料采用高纯氧化铝纤维，能很大程度减少能量损失提高加热效率和增加炉膛使用寿命

·左侧的预热系统可对输入的气体、液体、固体或混合物进行预加热，然后通入CVD炉中。

·预热装置的最高工作温度：600℃

·左侧法兰作为气体通道的同时起到密封作用（详细结构请看下图）

         右侧活动法兰                        结构示意图

特别推荐：视频会议产品展示（请点击此链接）

加热炉：

·最高温度: 1100℃（≤30min）  工作温度: 1000℃

·推荐升温速率:≤10℃/min

·加热区：440 mm

·热偶：K型热偶  加热元件：掺钼铁铬铝合金

·电压：220V, 额定功率：4KW

预热装置：

·连续工作温度: 0~300°C

·最快升温和降温速度: 10°C/min

·加热区：150 mm

更多参数请联系我们

CVD炉: 

①右法兰:

·水冷可避免密封圈融化

·KF25真空快接更加方便(可与真空泵、波纹管、真空阀等连接）

·滑动使操作更简单：样品可快速的放入和取出

·一个石英样品支架 ( 3英寸 )：与石英挡板滑动法兰连成一体

②左法兰 (在CVD 炉和小加热器之间):装有4个 1/4英寸卡套连结的通气管:

·法兰上有两个独立 1/4英寸接口，可单独将任何气体通入CVD炉

·其中一路通过1/4英寸接口将预热气体通入CVD炉

·另外一路通过1/4英寸口将不加热的气体通入CVD炉(在 CVD 炉内, 通过“T”型结构与加热气体汇合。)

·CVD炉体加热和前驱体（单独控温）：

·具有PID/自整定功能和50段可编程的数字控制器

·热电偶：K型热电偶，通过右侧法兰进料，控制炉温。

·控温精度：+/-1°C

·机械泵：10^-2 torr

·分子泵：10^-5 torr

·1200(L)X450(W)X600(H)mm

·重量约：110kg

·此产品已通过CE认证

  证书编号： M.2021.206.C67997

·若客户出认证费用，本公司保证单台设备通过德国TUV认证或CAS认证

·一年保修，终身技术支持。

·特别提示：

   1.耗材部分如加热元件，石英管，样品坩埚等不包含在内。

   2.因使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内。

点击查看售后服务承诺书。